半導(dǎo)體芯片用超純水系統(tǒng)
【南京純水設(shè)備】半導(dǎo)體芯片用超純水系統(tǒng)
芯片超純水系統(tǒng)是為半導(dǎo)體制造提供高純度水的設(shè)備，最新工藝主要包括預(yù)處理、反滲透、去離子處理、拋光處理等步驟，確保水質(zhì)達(dá)到18.2MΩ*cm以上的超純水標(biāo)準(zhǔn)，以滿足精密科學(xué)實(shí)驗(yàn)和工業(yè)應(yīng)用的需求。
1、預(yù)處理階段
多介質(zhì)過濾：去除大顆粒懸浮物。
活性炭過濾：吸附有機(jī)物和余氯，防止對(duì)反滲透膜的損害。
軟化處理：去除鈣鎂離子，防止膜元件結(jié)垢。
2、反滲透階段
雙級(jí)反滲透：有效去除溶解鹽和有機(jī)物，確保水質(zhì)達(dá)到EDI模塊進(jìn)水標(biāo)準(zhǔn)。
3、去離子處理階段
EDI技術(shù)：無須酸堿再生，環(huán)保且連續(xù)穩(wěn)定產(chǎn)水。
混床離子交換：進(jìn)一步去除離子，提高水質(zhì)純度。
4、拋光處理階段
紫外線氧化：分解有機(jī)物，降低TOC含量。
5、配送與循環(huán)
采用閉環(huán)循環(huán)系統(tǒng)，防止水質(zhì)污染，確保超純水穩(wěn)定供應(yīng)。
6、廢水處理與回用
對(duì)半導(dǎo)體制造產(chǎn)生的廢水進(jìn)行多級(jí)處理，實(shí)現(xiàn)高效、經(jīng)濟(jì)的處理，提高水資源利用率。
7、系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)
采用EDI技術(shù)，無須酸堿再生，保護(hù)環(huán)境。
產(chǎn)水過程穩(wěn)定連續(xù)，無復(fù)雜操作程序，降低安裝和維護(hù)要求。
配備智能監(jiān)控系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)控設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)和水質(zhì)參數(shù)，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程管理。
超純水系統(tǒng)為芯片生產(chǎn)提供必要的水質(zhì)保障，影響芯片良率和性能，是半導(dǎo)體制造不可或缺的環(huán)節(jié)。南京反滲透純水設(shè)備 南京EDI超純水處理設(shè)備 南京工業(yè)純水設(shè)備 南京實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備 南京醫(yī)藥純化水設(shè)備 南京去離子水處理設(shè)備
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